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磁控溅射镀膜设备

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CIGS光伏模组制造设备和仪器

2017-03-17 点击量:

1. 每个镀膜室内配有磁控靶1套,水冷,射频和直流兼容。靶材利用率30%, 膜层厚度均匀性<±3%,靶基距连续可调(根据客户要求设计)
2. 进样室、出样室、溅射镀膜室多个,呈in-line排布;该系统可根据工艺需要升级为更多真空室的结构,镀膜过程可自动化操作。